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DLC涂层沉积设备的系统组成都有哪些?

  目前制备DLC膜的方法很多,不同制备方法使用的碳源和到达基体表面的离子能量不同,沉积的DLC涂层结构和性能差别很大,摩擦性能也不同。下面DLC涂层沉积设备给大家介绍下DLC涂层沉积设备的系统组成都有哪些?


  一、热水冷却系统。在沉积室内,加热系统和水冷系统均布于沉积室四周,可控制加热温度、速度和水量,并设有相应的报警器,旋转系统设在沉积室底部,绝缘陶瓷绝缘,旋转速度可控。


  二、真空系统。本机由机械泵、罗茨泵、扩散泵及相应的控制阀、测量元件组成,可根据工艺要求自由切换高、低真空。


  三、供气系统。煤气供应系统位于沉积室顶部,气体种类包括H2、N2、Ar、CHa、C2H2、Si气体,同时在沉积室顶部预留两个通道接口,便于日后添加其它气体。含有Si的过渡层是已确认的有利于DLC涂层与基体结合力的一种涂层,为得到Si,通常使用SiH4作为原料气,但SiH4却具有较高危险性,因此采用SiH4作为Si的含Si气体源。


  四、沉积靶系统。该装置主要用于沉积DLC(类金刚石),它所使用的电源是一个脉冲调制电源,每一个参数都可连续调节,通过调节不同的硬度和厚度,可以开发出不同硬度、不同厚度的DLC涂层,同时通过调整工件的装卡方式,可形成多种“功能层+DLC”涂层。

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