武汉西卫迪科技有限公司
电话：赵经理 18062027208
网址：www.wuhancvd.com
地址：武汉市东湖新技术开发区高新二路41号谷方5栋3层3-8室（办公）
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武汉西卫迪科技有限公司的英文名称为“Wuhan CVD Science &Technology Co., ltd.”，公司名称中的“西卫迪”三个字来源于英文字母“CVD”的音译。“CVD”的英文全称为“Chemical Vapor Deposition”，翻译成中文为“化学气相沉积”，它是近几十年发展起来一种薄膜制备技术。 公司专门从事化学气相沉积设备、涂层制备设备、涂层沉积设备、薄膜沉积设备、粉体镀膜设备的相关业务，主要内容包括：各种常规化学气相沉积和激光化学气相沉积设备、CVD设备、旋转CVD、MOCVD设备、MOCVD原料的研发、生产、销售，该系列设备可用于制备组成复杂的SiO2、Al2O3、CeO2、Y2O3、YSZ、Ga2O3等各种氧化物薄膜，SiC、TaC、TiC、Si3N4、TiN、AlN等各种非氧化物薄膜，以及W、Ti、Cu、Ta、Al等各种单质金属薄膜；化学气相沉积法制膜所需要的各种原料（金属有机源）；各类化学气相沉积法制膜产品代加工；各类与化学气相沉积相关技术研发、技术咨询以及技术服务。 本公司在化学气相沉积设备的研发和制造上均处于行业领先地位，如本公司联合武汉工程大学共同研发的“液体原料供给系统”、“激光增强系统”、“闭环真空控制系统”、“智能计算机操控系统”、“固体原料加热系统”以及“大面积薄膜沉积设备”、“带材薄膜沉积设备”等，其中有多种产品填补国内空白。公司自主生产的化学气相沉积设备可广泛应用于大专院校、科研院所的教学、实验；企业的产品研发、产品中试、生产。
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