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CVD设备的种类与发展

时间:2021-12-21     

  CVD设备,又称化学气相沉积设备,属于一种薄膜沉积设备。它是CVD应用的载体,也是工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。从细分种类来看,根据工艺技术的不同,CVD设备可分为PECVD、APCVD/LPCVD、ALCVD、VPE等设备,其中APCVD/LPCVD与PECVD为主要CVD设备,其占比分别为37%、36%。

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  CVD设备种类介绍


       由于CVD设备的应用对于集成电路制造行业有着不可忽视的作用,我国政府陆续出台了一系列政策扶持CVD设备产业发展。

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  我国CVD设备相关政策


  在政策扶持下,我国CVD设备市场规模不断扩大。数据显示,2020年我国AP/LPCVD设备市场规模将从2018年的58亿元扩大到64亿元,PECVD设备市场规模将从2018年的56亿元扩大到61亿元。


  我国CVD设备国产化率也在不断提升,但整体来看仍较低,目前全球CVD设备市场仍由国外企业占据,我国CVD设备竞争力与海外知名企业相比仍具有一定的差距。数据显示,在全球CVD设备市场中,应用材料、泛林半导体和TEL三者合计占据了全球近70%的市场份额。


  在未来发展中,国内企业需不断提高核心竞争力,加速技术研发,以实现国产化替代。从国内竞争情况来看,目前我国CVD设备的主要生产企业包括北方华创和沈阳荆拓,随着CVD设备相关技术的研发,这两家企业或将成为我国CVD设备国产化率大幅提升的主要动力源。


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