CVD设备的种类与发展

　　CVD设备，又称化学气相沉积设备，属于一种薄膜沉积设备。它是CVD应用的载体，也是工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。从细分种类来看，根据工艺技术的不同，CVD设备可分为PECVD、APCVD/LPCVD、ALCVD、VPE等设备，其中APCVD/LPCVD与PECVD为主要CVD设备，其占比分别为37%、36%。

　　CVD设备种类介绍

       由于CVD设备的应用对于集成电路制造行业有着不可忽视的作用，我国政府陆续出台了一系列政策扶持CVD设备产业发展。

　　我国CVD设备相关政策

　　在政策扶持下，我国CVD设备市场规模不断扩大。数据显示，2020年我国AP/LPCVD设备市场规模将从2018年的58亿元扩大到64亿元，PECVD设备市场规模将从2018年的56亿元扩大到61亿元。

　　我国CVD设备国产化率也在不断提升，但整体来看仍较低，目前全球CVD设备市场仍由国外企业占据，我国CVD设备竞争力与海外知名企业相比仍具有一定的差距。数据显示，在全球CVD设备市场中，应用材料、泛林半导体和TEL三者合计占据了全球近70%的市场份额。

　　在未来发展中，国内企业需不断提高核心竞争力，加速技术研发，以实现国产化替代。从国内竞争情况来看，目前我国CVD设备的主要生产企业包括北方华创和沈阳荆拓，随着CVD设备相关技术的研发，这两家企业或将成为我国CVD设备国产化率大幅提升的主要动力源。