I-系列镀膜设备

CVD薄膜制备设备：I-系列

      本公司研发的“I-系列”CVD制膜设备主要面向工业应用（英文翻译为：Industrial Application），根据本公司命名规则，故将该系列设备名为“I-系列”。

1.“I-系列”设备特点

    “I-系列”设备是由“L-系列”设备衍生而出，根据工业应用稳定可靠的要求，所有“I-系列”的设备均配有喷液雾化-多元共析液体原料供料系统、智能真空度控制系统及智能操控程序（三种选配功能详情请参考“L-系列”设备介绍）。该系列设备与“L-系列”设备相比，除了强制搭载以上选配功能之外，还主要体现在制备工件的形状及尺寸的不同。

2.“I-系列”设备功能扩展

2.1制膜种类的扩展

       由于“I-系列”设备是在“L-系列”设备的基础上研发的，因此该系列设备制膜种类也不受限制，也即是说，只要在元素周期表里面能找到相关元素的金属有机源（详情可查询本公司主页“资料下载”一栏中的“CVD设备制膜种类查询”），即可单独、两两及以上互组合，制备出所需的薄膜，例如：氧化硅、氧化铝、氧化钛、碳化钛、氧化锆、碳化硅、碳化锆等等（具体制膜种类详情，请咨询客服）。

2.2工件尺寸的扩展

     “I-系列”最大特征在于其制膜所选取的工件外形及尺寸是根据实际工业需要而定的。对于所有的制膜工件而言，按照其外形分类，可分为如下四种：零维(粉体)、一维（带材或线材）、二维（板材）和三维（立体异型件）。对于粉体镀膜而言（零维工件），其具体的镀膜设备即为本公司研发的“R-系列”设备，也即是所谓的“旋转CVD”（具体详情，请参考主页“产品中心”→“CVD设备”→“R-系列CVD设备”）；对于带材或线材工件而言（一维工件），举例来讲，其具体的镀膜设备可参考本公司研发的“钇系超导带材涂层制备设备”，（具体详情，请参考主页“产品中心”→“CVD设备”→“钇系超导带材涂层制备设备”）；对于板材（二维工件）和立体异型件（三维工件）镀膜而言，由于用来制备立体异型件的设备也可以用来制备板材工件，因此该方面只以立体异型件（三维工件）镀膜设备为例，具体的实物图片如上图。该设备是制备β-SiC涂层的设备，工件尺寸为900*900*800mm以内即可。

       对于“I-系列”设备而言，其具体的制膜工件的形状、尺寸及所需的制膜温度（≤1500 oC）均可根据客户要求进行一对一的加工定制，具体详情，请咨询客服。

2.3加热辅助功能的扩展（激光CVD，选配）

       对于“I-系列”设备而言，当制膜工件为一维的线材或带材时，根据客户需要，可选择搭载不同型号的激光发生器，升级为“激光化学气相沉积(laser chemical vapor deposition)”设备。具体详情，请咨询公司客服。

2.4衬底旋转功能的扩展

       对于“I-系列”设备而言，当制备二维板材及三维立体异型件时，由于工件尺寸较大、形状比较复杂等原因，为了使工件涂敷更均匀，通常办法就是在镀膜时，使工件旋转起来。因此就涉及到衬底旋转功能，可以根据客户需要定制。具体详情，请咨询公司客服。

2.5工件翻转机械手功能

       对于所有制膜设备而言，当进行镀膜时，工件均有一面与基台接触，该接触的部分就成为镀膜盲点，为了消除盲点，通常做法就是当镀完一面时，将工件翻转，再镀另一面。这种消除盲点的办法最大缺点就是效率比较低，针对这一难题，本公司研制出了工件翻转机械手，能实现工件单次全涂敷的功能，该功能可根据客户需要定制。具体详情，请咨询公司客服。

3.设备选型

请在本公司主页“资料下载”栏目中点击“I-系列设备资料”对应的设备选型表。