化学气相沉积设备CVD是什么？

　　化学气相沉积（CVD）技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中，把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜。

武汉西卫迪科技有限公司专门从事化学气相沉积设备、涂层制备设备、涂层沉积设备、薄膜沉积设备、粉体镀膜设备相关的业务,主要内容包括：各种常规化学气相沉积以及激光化学气相沉积设备(laser CVD)旋转CVD、MOCVD设备、MOCVD原料的研发、生产、销售.

武汉西卫迪科技有限公司在化学气相沉积设备的研发和制造上均处于行业领先地位，如本公司联合武汉工程大学共同研发的“液体原料供给系统”、“激光增强系统”、“闭环真空控制系统”、“智能计算机操控系统”、“固体原料加热系统”以及“大面积薄膜沉积设备”、“带材薄膜沉积设备”等，其中有多种产品填补国内空白。公司自主生产的化学气相沉积设备可广泛应用于大专院校、科研院所的教学、实验；企业的产品研发、产品中试、生产。