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CVD化学气相沉积设备

时间:2022-01-14     作者:CVD设备厂家

  CVD化学气相沉积设备是使用乙醇作为碳源的微型、简化碳纳米管(CNT)合成系统。乙醇是用于生产碳纳米管CNT的非常方便的材料。它不需要像甲烷或乙炔气这样的可燃气瓶,并且允许在任何地方进行碳纳米管CNT合成实验。

  MPCNT化学气相沉积CVD系统不需要使用还原气(氢气)来还原催化剂,因为乙醇还具有很强的金属还原作用。由于合金中的Ni,Fe或Co催化元素作为催化颗粒被隔离,乙醇的还原作用使CNT可以直接在NiCu,SUS等合金材料上生长,而无需沉积催化剂薄膜。

CVD设备

  使用MPCNT化学气相沉积CVD设备系统,可以在各种类型的基板(例如硅,石英,不锈钢,金属和陶瓷)上生长高度结晶、垂直排列的碳纳米管CNT。设备的外形尺寸与个人计算机一样紧凑。操作简单,整个过程仅需20至30分钟。透明的玻璃室可以直接观察碳纳米管CNT的生长过程。该系统适用于大学实验室的碳纳米管CNT合成实验。

  *注意:在碳纳米管CNT生长之前,应在基材上沉积一层薄的催化剂膜。如果客户没有催化膜形成系统(例如真空沉积设备或溅射系统),建议使用我们的MPCNT-PremiumCVD化学气相沉积设备系统,它是一个完整的系统,涵盖了从催化剂形成到碳纳米管CNT生长或功能强大的一系列过程真空沉积设备MPVAP。我们也提供具有催化膜的基材(消耗品)。

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